氧化鋁拋光粉
Sciyea氧化反應鋁打磨拋光粉(fen),認真把控好粒(li)級和(he)改進水粒(li)子外(wai)觀性狀(zhuang)的(de)基礎性上創新工作。在工作方式中,此聚積的(de)晶體顆(ke)粒(li)快裂變式和(he)制砂,以達標(biao)從(cong)而提高切屑力和(he)外(wai)觀產品品質的(de)符(fu)合要(yao)求(qiu)。適使用于于硅、鍺、砷化鎵、磷(lin)化處理銦、鉭酸鋰(li)等的(de)材料(liao)。
- 適用于半導體、藍寶石、硬質玻璃、金屬、不銹鋼、鋁合金、鎢鉬材料。
- 在保持高切削力的同時,能達到精密的拋光、研磨效果;
- 可根據客戶需求提供更多不同粒徑的拋光液;
- 顆粒分散均勻,不團聚,有效避免拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷;
- 顆粒粒徑分布適中,最大程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率,可以提高拋光精度;
- 綜合運用打蠟 的時候中的藥劑學合集用,從而提高打蠟 加速度,改善效果打蠟 漆層的質。
- 純度高
- 切削力高
- 可達納米級范圍
- 顆粒度均勻
- 穩定性好
- 干硬度更高
- 適用于半導體、藍寶石、硬質玻璃、金屬、不銹鋼、鋁合金、鎢鉬材料。
- 在保持高切削力的同時,能達到精密的拋光、研磨效果;
- 可根據客戶需求提供更多不同粒徑的拋光液;
- 顆粒分散均勻,不團聚,有效避免拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷;
- 顆粒粒徑分布適中,最大程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率,可以提高拋光精度;
- 相結合打磨進程中的無機化學poro社用,提供打磨速度慢,有所改善打磨外面的效果。
- 純度高
- 切削力高
- 可達納米級范圍
- 顆粒度均勻
- 穩定性好
- 滑較高
粒度分析 | 中心粒徑um | 粒徑 | 中心粒徑 | 粒度 | 中心粒徑 |
#240 | 58.6±3.0 | #700 | 17.9±1.3 | #3000 | 4.00±0.50 |
#280 | 49.4±3.0 | #800 | 14.7±1.3 | #4000 | 3.00±0.40 |
#320 | 41.4±2.5 | #1000 | 11.9±1.0 | #6000 | 2.00±0.40 |
#360 | 36.1±2.0 | #1200 | 9.90±0.80 | #8000 | 1.20±0.30 |
#400 | 30.9±2.0 | #1500 | 8.40±0.60 | #10000 | 0.51~0.70 |
#500 | 26.4±2.0 | #2000 | 6.90±0.50 | #20000 | 0.50※(2) |
#600 | 21.1±1.5 | #2500 | 5.60±0.50 | #30000 | 0.32※(1.3)
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氧化鋁拋光粉
Sciyea氧化鋁拋光粉,嚴格控制粒徑和改善粒子表面特性的基礎上研發生產。在加工過程中,此聚集的結晶顆粒快速裂變和破碎,以達到提高切削力和表面質量的要求。適用于硅、鍺、砷化鎵、磷化銦、鉭酸鋰等材料。
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