硅溶膠/二氧化硅拋光液

Sciyea二空氣空氣氧(yang)(yang)化(hua)硅磨(mo)光液包括由高飽和度的(de)空氣空氣氧(yang)(yang)化(hua)硅微粉所構成。可(ke)應對生產時易出現的(de)刮傷(shang)的(de)問題(ti)，適(shi)于(yu)于(yu)鏜孔(kong)的(de)精(jing)拋，能達到鏜孔(kong)耍(shua)求的(de)鏡面玻璃使用效果，可(ke)取代一(yi)類進(jin)口商成品。

基本上新信息

使代替藍輝石裝修材料、超硬陶瓷制品裝修材料、硅片、鋁鋁料、鎂鋁鋁料、有機化合物半導體行業等打蠟生產制造；
ph酸堿度維持最基本堅持一致
分子量15-45（w%）
多方面用在很多原料的nm級有機化學自動化設備打磨拋光

性能

粒度分布不均均一（粒度分布不均分布不均窄，形貌成正球狀）
拋光劑效果高（特出工序，PH固定始終不變）
高非常平整度（外面的質量Ra＜0.2nm TTV＜3um）
嵌套循環三次多，食用使用期限長
晶粒時間慢，特點穩定性高

製品パラメーター

大多的信息

常可以用在藍月亮石的原食材、超硬瓷質的原食材、硅片、不銹鋼材質的、鎂鋁硬質合金、有機物光電器件等cnc精密機械生產制作生產制作；
pH確保穩定首要確保未變
含鋅量15-45（w%）
大范圍采用好幾種材料的納米級化學工業物理打蠟

特質

粒度勻稱均一（粒度勻稱勻稱窄，形貌成正球狀）
磨光錯誤率高（特別的配方內容，PH平穩一致）
高溝壑度（表面上的品質Ra＜0.2nm TTV＜3um）
間歇多次多，應用蓄電量長
晶體訪問速度過慢，能平穩

產品詳情

型號	中心粒徑（um）	PH值	應用領域
3800	20-40	10.0	單晶硅、碳化硅、砷化鎵、激光晶體等化合物半導體。
3801	60-80	10.0	藍月亮石襯底、激光手術晶狀體、光學玻璃晶狀體、鈮酸鋰、鉭酸鋰等。
3803	80-120	10.5	脈沖激光單晶體、細密合金屬、鉛合金屬、鈍化鋁淘瓷。
3803S	60-80	3.0	氮化鋁瓷磚