硅溶膠/二氧化硅拋光液

產品的間介

Sciyea二硫化硅拋(pao)光處理液基(ji)本(ben)由高溶解(jie)度的(de)(de)(de)硫化硅微粉(fen)所組成(cheng)。可禁止(zhi)制造時易(yi)所產生(sheng)的(de)(de)(de)刮傷原因，實應(ying)用(yong)于鋼件的(de)(de)(de)精拋(pao)，能滿足鋼件標準要求的(de)(de)(de)弧面體驗(yan)，可代用(yong)同種原裝進口(kou)食品。

產品介(jie)簡(jian)

    • 最詳細情況
    • 實使用于藍月亮石產品、超硬瓷質產品、硅片、裝飾管、鎂鋁鎂合金、有機化合物半導等拋光工作；
    • ph酸堿度維持基本上保證不改
    • 量15-45（w%）
    • 密切使用在多種多樣建材的納米技術級藥劑學機戒打磨拋光

     

    • 基本特征
    • 粒級均一（粒級劃分窄，形貌成正球狀）
    • 拋光處理有精度高（非常規配比，PH穩定性高發生變化）
    • 高比較平整度（面產品Ra＜0.2nm TTV＜3um）
    • 反復的頻次多，運用期限長
    • 成果時速慢，安全性能增強


  • 產品參數

    • 基本的信心
    • 可于于藍紅寶石建材、超硬工業陶瓷建材、硅片、不銹鋼板、鎂錳鋼類、類化合物半導體材料等鏡面拋光制造；
    • 酸堿值平穩一般提高不改
    • 濃度15-45（w%）
    • 諸多采用三種板材的納米級有機化學機制打磨

     

    • 性
    • 比表面積均一（比表面積劃分窄，形貌成正球狀）
    • 打蠟 使用率高（特俗配法，PH動態平衡不便）
    • 高非常平整度（外壁安全性能Ra＜0.2nm TTV＜3um）
    • 配置危害多，安全使用壽命長
    • 晶體車速慢，功效比較穩定


型號中心粒徑（nm）PH值應用領域
380020-4010.0單晶硅、碳化硅、砷化鎵、激光晶體等化合物半導體。
380160-8010.0藍瑪瑙襯底、繳光結晶、光纖激光切割機的結晶、鈮酸鋰、鉭酸鋰等。
380380-12010.5繳光晶狀體、精細不銹鋼、鋁金屬、脫色鋁瓷器。
3803S60-803.0氮化鋁瓷質


硅溶膠/二氧化硅拋光液
Sciyea二氧化硅拋光液主要由高純度的氧化硅微粉所組成。可避免加工時易產生的刮傷現象，適用于工件的精拋，能達到工件要求的鏡面效果，可替代同類進口產品。
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