鉆石研磨墊

企業產品概述

Sciyea金(jin)剛(gang)石粉(fen)磨墊,不需要結合(he)漿料,節約開支研(yan)拋的時間并有所改善(shan)了生(sheng)產(chan)加工周(zhou)圍環境,幅度降(jiang)底泥砂操(cao)作(zuo)成本投入。粉(fen)磨墊用背膠與(yu)粉(fen)磨盤(pan)(pan)粘(zhan)附,以做到(dao)簡(jian)單的裝設和拆換(huan),金(jin)剛(gang)石粉(fen)磨墊可簡(jian)單裝設到(dao)涉及粉(fen)磨盤(pan)(pan)/拋方(fang)法上。

好產品簡單介紹(shao)

    • 基本信息
    • 粒徑:X-4mic、9mic、16mic;
    • 尺寸:640mm、860mm、880mm、980mm、1120mm;
    • 功用:電子光學元器件、有機物半導體器件、夾層玻璃晶圓、三棱鏡、瓷磚的磨細加工;


    • 特性
    • 實現晶片穩定的高去除率和較低的表面粗糙度,更有利于后續的加工;
    • 相對于使用游離磨料更低的生產成本;
    • 更淺的亞表面損傷層;
    • 更加清潔的工作環境;
    • 節能環保,不需建立游離磨料廢液沉淀池

  • 產品參數

    • 基本信息
    • 粒徑:X-4mic、9mic、16mic;
    • 尺寸:640mm、860mm、880mm、980mm、1120mm;
    • 用處:光學夾層玻璃元件、有機化合物半導體行業、夾層玻璃晶圓、反射鏡、陶瓷廠家的研磨機藝;


    • 特性
    • 實現晶片穩定的高去除率和較低的表面粗糙度,更有利于后續的加工;
    • 相對于使用游離磨料更低的生產成本;
    • 更淺的亞表面損傷層;
    • 更加清潔的工作環境;
    • 節能環保,不需建立游離磨料廢液沉淀池

1.爐料固結于磨細拋光墊中,以進行高效率高及增強的徹底清除率,提高自己磨細拋光高效率> 2倍,節約CMP時候> 20%,削磨率多達一樣粒級混凝土磨細拋光工藝設備的2倍及以上2.整合的砂輪層款式,以體現晶片處理后更大的單單從表面質,和切實保障良好的鑄件垂直面操縱穩定性(TTV, Warp, Bow)。3.不同混合法漿料,節約開支耗時并改進了的工作產所的環保度,無混凝土進行處理成本投入,節約開支條件環保服務費。4.進行背膠與磨細機盤ps復制,以實現了便利性的組裝和拆換,穩定的磨細機墊可同時組裝到主要儀器板上,需不需要更多的股權投資人投資人
型號厚度(mm)粒徑(um)
Y042.204
Y092.209
Y202.2020
YF042.604
YF092.609
YF202.6020


鉆石研磨墊
Sciyea金剛石研磨墊,無需混合漿料,節省研拋時間并改善了車間環境,大幅降低泥漿處理成本。研磨墊通過背膠與研磨盤粘貼,以實現便捷的安裝和拆卸,金剛石研磨墊可直接安裝到現有研磨盤/拋光盤上。
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